直面PCB新技術(shù)挑戰(zhàn)——寫(xiě)在龍人PCB抄板事業(yè)遭侵襲之際
來(lái)源：http://yvktnlc.cn 作者：站長(zhǎng) 時(shí)間：2012-08-28 09:12:49
中國(guó)大陸電子電路產(chǎn)業(yè)自2003年以來(lái)，迎來(lái)了一個(gè)新的高峰。特別是深圳在國(guó)內(nèi)需求及國(guó)外產(chǎn)業(yè)持續(xù)轉(zhuǎn)移的推動(dòng)下，已經(jīng)逐步形成PCB生產(chǎn)產(chǎn)值最大的、技術(shù)發(fā)展最活躍的中心地區(qū)。龍人計(jì)算機(jī)有限公司跟緊行業(yè)發(fā)展也在深圳成立了分公司和生產(chǎn)廠家，以下是從我司視角發(fā)現(xiàn)的一些PCB新技術(shù)工藝及應(yīng)對(duì)策略。
從世界PCB產(chǎn)品結(jié)構(gòu)來(lái)看，下一代的電子系統(tǒng)對(duì)PCB的要求突出表現(xiàn)在更加高密度化。隨著電子整機(jī)產(chǎn)品的多功能化、小型化、輕量化的發(fā)展，多層板、撓性印制電路板FPC、剛撓結(jié)合板、HDI/BUM基板、IC封裝基板等品種已成為需求量大的產(chǎn)品。
近年來(lái)世界PCB的技術(shù)發(fā)展集中表現(xiàn)在無(wú)源(即埋入式或嵌入式)元件PCB、光技術(shù)PCB等新型PCB產(chǎn)品，噴墨PCB工藝，以及納米材料在pcb板上的應(yīng)用等方面。
1.隨著元器件的片式化集成化以及集成電路BGA(球柵陣列)、CSP(芯片級(jí)封裝)和MCM(多芯片模塊)封裝形式的日益流行，PCB呈現(xiàn)出封裝端子微細(xì)化、封裝高集成化的發(fā)展趨勢(shì)，以適應(yīng)高密度組裝的要求。
2.隨著光接口技術(shù)的發(fā)展，將出現(xiàn)在PCB上實(shí)現(xiàn)光配線(xiàn)技術(shù)、光印制線(xiàn)路板技術(shù)、光表面安裝技術(shù)以及光電合一的模塊化技術(shù)(光器件和電器件同一模塊組合的設(shè)計(jì)技術(shù)、安裝技術(shù))。
3.隨著系統(tǒng)的高速化，PCB的阻抗匹配已成為重要問(wèn)題，根據(jù)信號(hào)速度和布線(xiàn)長(zhǎng)度不同，要求失真降到10%或5%以下，甚至3%以下。
4.為適應(yīng)CSP和倒芯片封裝(FC)的發(fā)展，需要使用具有內(nèi)導(dǎo)通孔(IVH)結(jié)構(gòu)的高密度PCB，但其高價(jià)格限制了它的使用，因此需要不斷優(yōu)化現(xiàn)有的積層法工藝，使IVH結(jié)構(gòu)的PCB實(shí)現(xiàn)低成本量產(chǎn)。
5.為滿(mǎn)足精細(xì)端子間距的CSP和FC封裝發(fā)展的需要，導(dǎo)體圖形微細(xì)化技術(shù)將朝著最小線(xiàn)寬/間距為25μm/25μm、布線(xiàn)中心距50μm、導(dǎo)體厚度5μm以下的方向發(fā)展。
6.激光導(dǎo)通孔工藝是積層法多層板導(dǎo)通孔加工手段的主流，CO2激光和UV激光加工機(jī)將成為適用于實(shí)用化工藝的發(fā)展主流，其最小導(dǎo)通孔孔徑將由目前的50μm～80μm降到30μm，孔徑精度和導(dǎo)通孔位置精度提高到±15μm。
7.內(nèi)部嵌入薄型無(wú)源元件的PCB板已在GSM移動(dòng)電話(huà)中應(yīng)用，未來(lái)將會(huì)出現(xiàn)內(nèi)部嵌入IC元件的PCB板和嵌入薄膜元件的撓性電路板。
8.噴墨打印技術(shù)的成熟與發(fā)展將可能以更低的成本、更快的速度生產(chǎn)PCB。
9.以納米材料制作布線(xiàn)的新一代PCB已在世界上露面，納米技術(shù)的廣泛使用將對(duì)降低PCB介電常數(shù)、提高力學(xué)性質(zhì)、提升產(chǎn)品的耐熱性以及對(duì)產(chǎn)業(yè)環(huán)保的應(yīng)用等方面產(chǎn)生積極影響。
面對(duì)以上PCB新技術(shù)帶來(lái)的挑戰(zhàn)，龍人PCB抄板事業(yè)部沒(méi)有放棄競(jìng)爭(zhēng)，而是開(kāi)拓思路，積極尋找新的生存空間，因?yàn)橹挥兄泵嫣魬?zhàn)，順應(yīng)變化，利用新技術(shù)提升或開(kāi)辟新的業(yè)務(wù)領(lǐng)域，才有可能獲得新的生存空間。多元化和專(zhuān)業(yè)化雙輪并舉正是在這種形勢(shì)下誕生的一種新型營(yíng)業(yè)模式。
從世界PCB產(chǎn)品結(jié)構(gòu)來(lái)看，下一代的電子系統(tǒng)對(duì)PCB的要求突出表現(xiàn)在更加高密度化。隨著電子整機(jī)產(chǎn)品的多功能化、小型化、輕量化的發(fā)展，多層板、撓性印制電路板FPC、剛撓結(jié)合板、HDI/BUM基板、IC封裝基板等品種已成為需求量大的產(chǎn)品。
近年來(lái)世界PCB的技術(shù)發(fā)展集中表現(xiàn)在無(wú)源(即埋入式或嵌入式)元件PCB、光技術(shù)PCB等新型PCB產(chǎn)品，噴墨PCB工藝，以及納米材料在pcb板上的應(yīng)用等方面。
1.隨著元器件的片式化集成化以及集成電路BGA(球柵陣列)、CSP(芯片級(jí)封裝)和MCM(多芯片模塊)封裝形式的日益流行，PCB呈現(xiàn)出封裝端子微細(xì)化、封裝高集成化的發(fā)展趨勢(shì)，以適應(yīng)高密度組裝的要求。
2.隨著光接口技術(shù)的發(fā)展，將出現(xiàn)在PCB上實(shí)現(xiàn)光配線(xiàn)技術(shù)、光印制線(xiàn)路板技術(shù)、光表面安裝技術(shù)以及光電合一的模塊化技術(shù)(光器件和電器件同一模塊組合的設(shè)計(jì)技術(shù)、安裝技術(shù))。
3.隨著系統(tǒng)的高速化，PCB的阻抗匹配已成為重要問(wèn)題，根據(jù)信號(hào)速度和布線(xiàn)長(zhǎng)度不同，要求失真降到10%或5%以下，甚至3%以下。
4.為適應(yīng)CSP和倒芯片封裝(FC)的發(fā)展，需要使用具有內(nèi)導(dǎo)通孔(IVH)結(jié)構(gòu)的高密度PCB，但其高價(jià)格限制了它的使用，因此需要不斷優(yōu)化現(xiàn)有的積層法工藝，使IVH結(jié)構(gòu)的PCB實(shí)現(xiàn)低成本量產(chǎn)。
5.為滿(mǎn)足精細(xì)端子間距的CSP和FC封裝發(fā)展的需要，導(dǎo)體圖形微細(xì)化技術(shù)將朝著最小線(xiàn)寬/間距為25μm/25μm、布線(xiàn)中心距50μm、導(dǎo)體厚度5μm以下的方向發(fā)展。
6.激光導(dǎo)通孔工藝是積層法多層板導(dǎo)通孔加工手段的主流，CO2激光和UV激光加工機(jī)將成為適用于實(shí)用化工藝的發(fā)展主流，其最小導(dǎo)通孔孔徑將由目前的50μm～80μm降到30μm，孔徑精度和導(dǎo)通孔位置精度提高到±15μm。
7.內(nèi)部嵌入薄型無(wú)源元件的PCB板已在GSM移動(dòng)電話(huà)中應(yīng)用，未來(lái)將會(huì)出現(xiàn)內(nèi)部嵌入IC元件的PCB板和嵌入薄膜元件的撓性電路板。
8.噴墨打印技術(shù)的成熟與發(fā)展將可能以更低的成本、更快的速度生產(chǎn)PCB。
9.以納米材料制作布線(xiàn)的新一代PCB已在世界上露面，納米技術(shù)的廣泛使用將對(duì)降低PCB介電常數(shù)、提高力學(xué)性質(zhì)、提升產(chǎn)品的耐熱性以及對(duì)產(chǎn)業(yè)環(huán)保的應(yīng)用等方面產(chǎn)生積極影響。
面對(duì)以上PCB新技術(shù)帶來(lái)的挑戰(zhàn)，龍人PCB抄板事業(yè)部沒(méi)有放棄競(jìng)爭(zhēng)，而是開(kāi)拓思路，積極尋找新的生存空間，因?yàn)橹挥兄泵嫣魬?zhàn)，順應(yīng)變化，利用新技術(shù)提升或開(kāi)辟新的業(yè)務(wù)領(lǐng)域，才有可能獲得新的生存空間。多元化和專(zhuān)業(yè)化雙輪并舉正是在這種形勢(shì)下誕生的一種新型營(yíng)業(yè)模式。
